Pruprietà principali è applicazioni di i miri di sputtering

I target di sputtering sò generalmente riferitimateriali di destinazione utilizatu in u metudu di sputtering di deposizione fisica di vapore (PVD). Sti materiali sò tipicamente e seguenti proprietà è applicazioni:

prestazione:

Alta Purezza: I miri di sputtering anu da esse di alta purezza per assicurà a qualità è u rendiment di i filmi dipositati.

Uniformità: U materiale di destinazione deve avè una bona uniformità per assicurà l'uniformità è a stabilità di a film depositata durante u prucessu di sputtering.

Resistenza à alta temperatura: U materiale di destinazione deve esse capace di resistà à l'alta temperatura è u bumbardamentu d'energia durante u prucessu di sputtering.

Forza meccanica: Per mantene una forma stabile, u materiale di destinazione deve avè una bona forza meccanica è stabilità.

applicazione:

Depositu di film sottile: i miri di sputtering sò largamente usati in i prucessi di deposizione di film sottile, cumprese a deposizione di metalli, ossidi, nitruri, carburi è altri materiali.

Dispositivi elettronici: I targets di sputtering sò usati per preparà filmi semiconduttori, filmi conduttivi è filmi ottichi per a preparazione di apparecchi elettronichi è ottichi.

Rivestimenti decorativi : I mira di sputtering sò ancu usati per preparà rivestimenti decorattivi è funziunali, cum'è rivestimenti anti-riflettenti, rivestimenti anti-corrosione, etc.

Cellule solari : I miri di sputtering sò ancu usati in a produzzione di cellule solari per preparà strati assorbenti di luce è materiali di l'elettrodi.

In generale, i miri di sputtering anu una alta purità è uniformità è sò largamente usati in i prucessi di deposizione di film sottili è in u campu di preparazione di materiali funziunali.