စက်မှုသတင်း

Sputtering ပစ်မှတ်များသည် များသောအားဖြင့် ရုပ်ပိုင်းဆိုင်ရာအငွေ့ထုတ်ခြင်း (PVD) sputtering method တွင်အသုံးပြုသည့် ပစ်မှတ်ပစ္စည်းများကို ရည်ညွှန်းသည်။

ယေဘူယျအားဖြင့်၊ ၎င်းတို့၏ထူးခြားသောဂုဏ်သတ္တိများဖြင့် နာနိုပစ္စည်းများသည် အီလက်ထရွန်းနစ်၊ ဆေးပညာ၊ ပစ္စည်းများနှင့် စွမ်းအင်နယ်ပယ်များတွင် ဆန်းသစ်သောအသုံးချမှုများစွာကို ပေးဆောင်သည်။

High Entropy Alloys (HEAs) သည် သတ္တုဒြပ်စင် ငါးခု သို့မဟုတ် ထို့ထက်ပို၍ ဖွဲ့စည်းထားသော အထူးသတ္တုစပ်များဖြစ်သည်။ ၎င်း၏ထူးခြားသောအသေးစားဖွဲ့စည်းပုံနှင့် ကောင်းမွန်သောဂုဏ်သတ္တိများကြောင့်၊ မြင့်မားသော entropy သတ္တုစပ်သတ္တုပစ္စည်းများကို နယ်ပယ်အချို့တွင် အသုံးချခဲ့သည်။

MSDS (ဓာတုဘေးကင်းရေးဒေတာစာရွက်များ) ပြင်ဆင်မှုသည် တင်းကျပ်သော ဥပဒေများ၊ စည်းမျဉ်းများနှင့် စံနှုန်းများကို လိုက်နာပါသည်။ မတူညီသောနိုင်ငံများတွင် စည်းမျဉ်းစည်းကမ်းသတ်မှတ်ချက်များ မတူညီနိုင်သော်လည်း ဘုံအရေးအသားသတ်မှတ်ချက်များတွင် အောက်ပါတို့ပါဝင်သည်-