ઔદ્યોગિક પ્રક્રિયા માટે ઉચ્ચ શુદ્ધતા પેલેડિયમ કણ Pd CAS 7440-05-3

તે સામાન્ય રીતે મિશ્રધાતુમાંથી વળેલું હોય છે અને તેને ડાયાફ્રેમ (જેને ફિલ્મ કહેવાય છે) અને પટલની નળી (જેને ટ્યુબ કહેવાય છે) બનાવી શકાય છે. ફિલ્મની જાડાઈ સામાન્ય રીતે 50 થી 100 માઇક્રોન હોય છે. તે મુખ્યત્વે ઓક્સિજનના શુદ્ધિકરણ માટે વપરાય છે, અને તેનો સિદ્ધાંત સોલ્યુશન-પ્રસરણ મોડ છે, અને પ્રસરણનું ચાલક બળ એ પટલની બંને બાજુએ હાઇડ્રોજનનું આંશિક દબાણ તફાવત છે. 300-500C પર, જ્યારે કાચી સામગ્રી હાઇડ્રોજનને ફિલ્મની એક બાજુમાં દબાણ કરવામાં આવે છે, ત્યારે હાઇડ્રોજન પરમાણુ પ્રથમ રાસાયણિક રીતે ફિલ્મની સપાટી પર હાઇડ્રોજન પરમાણુમાં શોષી લે છે અને વિસર્જન કરે છે, બાદમાં હાઇડ્રાઇડ્સ બનાવવા માટે એલોયમાં ઓગળી જાય છે, અને નાના હાઇડ્રોજન અણુઓ એલોય જાળીના ગેપમાં સ્થિત છે અને મુક્તપણે ખસેડી શકે છે. એકાગ્રતા ઢાળ દ્વારા સંચાલિત, હાઇડ્રોજન પરમાણુ પટલની બીજી બાજુ ફેલાય છે અને બહાર નીકળે છે, હાઇડ્રોજન પરમાણુઓ અને ડિસોર્પ્શનમાં ફરીથી સંયોજિત થાય છે. હાઇડ્રોજન અને તેના આઇસોટોપ્સ ઉપરાંત, અન્ય કોઈ ગેસ પટલમાંથી પસાર થઈ શકતો નથી, તેથી આર્મર્ડ મેમ્બ્રેનનો ઉપયોગ અતિ-ઉચ્ચ શુદ્ધતા હાઈડ્રોજન મેળવવા માટે થઈ શકે છે. હાઇડ્રોજન ટ્રાન્સમેમ્બ્રેનનો દર ફિલ્મની બંને બાજુએ તાપમાન, ફિલ્મની જાડાઈ અને હાઇડ્રોજન આંશિક દબાણ તફાવત P સાથે સંબંધિત છે. તાપમાનમાં વધારો, માનવ પીમાં વધારો અને ફિલ્મની જાડાઈમાં ઘટાડો હાઈડ્રોજનની અભેદ્યતામાં વધારો કરી શકે છે. જો કે, જો તાપમાન ખૂબ ઊંચું હોય, તો તે ઊર્જા વપરાશમાં વધારો કરશે અને ફિલ્મની શારીરિક શક્તિમાં ઘટાડો કરશે. તેથી, તાપમાન સામાન્ય રીતે 400C આસપાસ નિયંત્રિત થાય છે. કેટલીક અશુદ્ધિઓ પટલના ઝેર તરફ દોરી શકે છે, પટલની એમોનિયા અભેદ્યતા ઘટાડે છે અને પટલનો નાશ પણ કરી શકે છે. સીસાનું ઝેર પારો, આર્સેનાઈડ, હલાઈડ, તેલની વરાળ, સલ્ફર અને એમોનિયા પદાર્થો અને ધૂળને કારણે થઈ શકે છે. એલ્યુમિનિયમ એલોયને ટ્યુબ (ટ્યુબ) અથવા ડાયાફ્રેમ્સ (ફિલ્મો) બનાવી શકાય છે.