ಇಂಡಸ್ಟ್ರಿಯಲ್ ಪ್ರೊಸೆಸಿಂಗ್ Pd CAS 7440-05-3 ಗಾಗಿ ಹೆಚ್ಚಿನ ಶುದ್ಧತೆಯ ಪಲ್ಲಾಡಿಯಮ್ ಕಣ

ಇದನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ ಮಿಶ್ರಲೋಹದಿಂದ ಸುತ್ತಿಕೊಳ್ಳಲಾಗುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಡಯಾಫ್ರಾಮ್ (ಫಿಲ್ಮ್ ಎಂದು ಕರೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ) ಮತ್ತು ಮೆಂಬರೇನ್ ಟ್ಯೂಬ್ (ಟ್ಯೂಬ್ ಎಂದು ಕರೆಯಲಾಗುತ್ತದೆ) ಆಗಿ ಮಾಡಬಹುದು. ಫಿಲ್ಮ್ ದಪ್ಪವು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 50 ರಿಂದ 100 ಮೈಕ್ರಾನ್ಗಳು. ಇದನ್ನು ಮುಖ್ಯವಾಗಿ ಆಮ್ಲಜನಕದ ಶುದ್ಧೀಕರಣಕ್ಕಾಗಿ ಬಳಸಲಾಗುತ್ತದೆ, ಮತ್ತು ಅದರ ತತ್ವವು ಪರಿಹಾರ-ಪ್ರಸರಣ ಮೋಡ್ ಆಗಿದೆ, ಮತ್ತು ಪ್ರಸರಣದ ಚಾಲನಾ ಶಕ್ತಿಯು ಪೊರೆಯ ಎರಡೂ ಬದಿಗಳಲ್ಲಿ ಹೈಡ್ರೋಜನ್ನ ಭಾಗಶಃ ಒತ್ತಡದ ವ್ಯತ್ಯಾಸವಾಗಿದೆ. 300-500C ನಲ್ಲಿ, ಕಚ್ಚಾ ವಸ್ತುವಿನ ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಅನ್ನು ಫಿಲ್ಮ್‌ನ ಒಂದು ಬದಿಯಲ್ಲಿ ಒತ್ತಡಕ್ಕೆ ಒಳಪಡಿಸಿದಾಗ, ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಅಣುವು ಮೊದಲು ರಾಸಾಯನಿಕವಾಗಿ ಹೀರಿಕೊಳ್ಳುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಮ್‌ನ ಮೇಲ್ಮೈಯಲ್ಲಿ ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಪರಮಾಣುಗಳಾಗಿ ವಿಯೋಜಿಸುತ್ತದೆ, ಎರಡನೆಯದು ಮಿಶ್ರಲೋಹದಲ್ಲಿ ಕರಗಿ ಹೈಡ್ರೈಡ್‌ಗಳನ್ನು ರೂಪಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಚಿಕ್ಕದು ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಪರಮಾಣುಗಳು ಮಿಶ್ರಲೋಹದ ಲ್ಯಾಟಿಸ್ನ ಅಂತರದಲ್ಲಿವೆ ಮತ್ತು ಮುಕ್ತವಾಗಿ ಚಲಿಸಬಹುದು. ಸಾಂದ್ರತೆಯ ಗ್ರೇಡಿಯಂಟ್‌ನಿಂದ ಪ್ರೇರಿತವಾಗಿ, ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಪರಮಾಣುಗಳು ಪೊರೆಯ ಇನ್ನೊಂದು ಬದಿಗೆ ಹರಡುತ್ತವೆ ಮತ್ತು ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಅಣುಗಳು ಮತ್ತು ನಿರ್ಜಲೀಕರಣಕ್ಕೆ ಮರುಸಂಯೋಜಿಸುತ್ತವೆ. ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಮತ್ತು ಅದರ ಐಸೊಟೋಪ್‌ಗಳ ಜೊತೆಗೆ, ಯಾವುದೇ ಇತರ ಅನಿಲವು ಪೊರೆಯ ಮೂಲಕ ಹಾದುಹೋಗುವುದಿಲ್ಲ, ಆದ್ದರಿಂದ ಶಸ್ತ್ರಸಜ್ಜಿತ ಪೊರೆಯನ್ನು ಅಲ್ಟ್ರಾ-ಹೈ ಶುದ್ಧತೆಯ ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಪಡೆಯಲು ಬಳಸಬಹುದು. ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಟ್ರಾನ್ಸ್‌ಮೆಂಬ್ರೇನ್ ದರವು ತಾಪಮಾನ, ಫಿಲ್ಮ್ ದಪ್ಪ ಮತ್ತು ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಭಾಗಶಃ ಒತ್ತಡದ ವ್ಯತ್ಯಾಸ P ಗೆ ಫಿಲ್ಮ್‌ನ ಎರಡೂ ಬದಿಗಳಲ್ಲಿ ಸಂಬಂಧಿಸಿದೆ. ಹೆಚ್ಚುತ್ತಿರುವ ತಾಪಮಾನ, ಮಾನವನ P ಅನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುವುದು ಮತ್ತು ಫಿಲ್ಮ್ ದಪ್ಪವನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುವುದರಿಂದ ಹೈಡ್ರೋಜನ್ ಪ್ರವೇಶಸಾಧ್ಯತೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸಬಹುದು. ಆದಾಗ್ಯೂ, ತಾಪಮಾನವು ತುಂಬಾ ಹೆಚ್ಚಿದ್ದರೆ, ಅದು ಶಕ್ತಿಯ ಬಳಕೆಯನ್ನು ಹೆಚ್ಚಿಸುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಚಿತ್ರದ ದೈಹಿಕ ಶಕ್ತಿಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ. ಆದ್ದರಿಂದ, ತಾಪಮಾನವನ್ನು ಸಾಮಾನ್ಯವಾಗಿ 400C ನಲ್ಲಿ ನಿಯಂತ್ರಿಸಲಾಗುತ್ತದೆ. ಕೆಲವು ಕಲ್ಮಶಗಳು ಪೊರೆಯ ವಿಷಕ್ಕೆ ಕಾರಣವಾಗಬಹುದು, ಪೊರೆಯ ಅಮೋನಿಯಾ ಪ್ರವೇಶಸಾಧ್ಯತೆಯನ್ನು ಕಡಿಮೆ ಮಾಡುತ್ತದೆ ಮತ್ತು ಪೊರೆಯನ್ನು ನಾಶಪಡಿಸಬಹುದು. ಪಾದರಸ, ಆರ್ಸೆನೈಡ್, ಹಾಲೈಡ್, ತೈಲ ಆವಿ, ಸಲ್ಫರ್ ಮತ್ತು ಅಮೋನಿಯಾ ಪದಾರ್ಥಗಳು ಮತ್ತು ಧೂಳಿನಿಂದ ಸೀಸದ ವಿಷವು ಉಂಟಾಗಬಹುದು. ಅಲ್ಯೂಮಿನಿಯಂ ಮಿಶ್ರಲೋಹವನ್ನು ಟ್ಯೂಬ್ಗಳು (ಟ್ಯೂಬ್ಗಳು) ಅಥವಾ ಡಯಾಫ್ರಾಮ್ಗಳು (ಫಿಲ್ಮ್ಗಳು) ಮಾಡಬಹುದು.