0102030405
Fabrikversuergung: GERMANIUM SELENIDE CAS 12065-11-1 High-Entropy Alloys
Eegeschaften
•Applikatioun:Fuerschung
•Molekulare Gewiicht:230,56
•Schmëlzpunkt :707 °C
• Form: Partikel
•Mark Numm: Lonwin
• MOQ: 1KG
Produkter Benotzung
GeSe2 ass eng Kadmiumselenidverbindung déi e puer industriell Notzungen huet. Et gëtt allgemeng an der Fabrikatioun vun opteschen Dënnfilmbeschichtungen, opteschen Apparater an Infraroutdetektoren benotzt. Wéinst sengen opteschen Eegeschaften an Halbleitereigenschaften huet GeSe2 eng breet Palette vun Uwendungen an Infraroutoptesch Systemer an Infraroutsensoren. Zousätzlech gëtt GeSe2 och als Material fir e puer elektronesch Geräter benotzt, sou wéi net flüchteg Erënnerungsapparater an optesch Späichermedien. Am Allgemengen huet GeSe2 gewësse industriell Uwendungen an de Beräicher vun der Optik, Elektronik an Infrarout.
Natierlech, zousätzlech zu den uewe genannten Uwendungen, gëtt GeSe2 och als Katalysator fir e puer chemesch Reaktiounen an als Additiv fir e puer Brëller a Keramik benotzt. Et kann och als Katalysatoren a Katalysatorstützen a bestëmmte chemesche Syntheseprozesser benotzt ginn. Dofir huet GeSe2 eng Vielfalt vu Gebrauch an der Industrie, déi Felder wéi Optik, Elektronik, Chemeschen Ingenieur a Materialwëssenschaft deckt.
Verpackung:
Eis normal Verpakung ass 25kgs / Drum
D'Verpakung kann personaliséiert ginn. de Versandbegrëff kann iwwer Mier sinn, duerch d'Loft, a Probe oder kleng Quantitéit ka vun DHL, FEDEX, EMS an TNT geschéckt ginn.
Bemierkung: Chemesch Zesummesetzung a Gréisst kënnen duerch d'Ufuerderunge vun de Clienten optimiséiert ginn
Konditioune fir sécher Lagerung, och all Inkompatibilitéit
Getrennt vun Ammoniak, staark Waasserstoffperoxid Léisungen a staark Saieren.
Sécherheet Schutz
Precautiounen fir sécher Ëmgank
Handhabung an enger gutt gelëfter Plaz. Droen gëeegent Schutzkleedung. Vermeiden Kontakt mat Haut an Aen. Vermeiden d'Bildung vu Stëbs an Aerosolen. Benotzt Net-Sparking Tools. Vermeiden Feier verursaacht duerch elektrostatesch Entladungsdamp.