தொழில்துறை செயலாக்கத்திற்கான உயர் தூய்மை பல்லேடியம் துகள் Pd CAS 7440-05-3

இது பொதுவாக அலாய் இருந்து உருட்டப்படுகிறது மற்றும் ஒரு உதரவிதானம் (ஒரு படம் என்று அழைக்கப்படுகிறது) மற்றும் ஒரு சவ்வு குழாய் (ஒரு குழாய் என்று அழைக்கப்படும்) செய்ய முடியும். படத்தின் தடிமன் பொதுவாக 50 முதல் 100 மைக்ரான் வரை இருக்கும். இது முக்கியமாக ஆக்ஸிஜனை சுத்திகரிப்பதற்காகப் பயன்படுத்தப்படுகிறது, மேலும் அதன் கொள்கை தீர்வு-பரவல் பயன்முறையாகும், மேலும் பரவலின் உந்து சக்தியானது மென்படலத்தின் இருபுறமும் உள்ள ஹைட்ரஜனின் பகுதியளவு அழுத்த வேறுபாடாகும். 300-500C இல், மூலப்பொருளான ஹைட்ரஜன் படத்தின் ஒரு பக்கமாக அழுத்தப்படும்போது, ​​ஹைட்ரஜன் மூலக்கூறு முதலில் வேதியியல் ரீதியாக உறிஞ்சி, படத்தின் மேற்பரப்பில் ஹைட்ரஜன் அணுக்களாகப் பிரிகிறது, பிந்தையது கலவையில் கரைந்து ஹைட்ரைடுகளை உருவாக்குகிறது, மேலும் சிறியது ஹைட்ரஜன் அணுக்கள் அலாய் லட்டியின் இடைவெளியில் அமைந்துள்ளன மற்றும் சுதந்திரமாக நகரும். செறிவு சாய்வு மூலம் இயக்கப்படும், ஹைட்ரஜன் அணுக்கள் மென்படலத்தின் மறுபக்கத்திற்கு பரவி வெளியேறி, ஹைட்ரஜன் மூலக்கூறுகள் மற்றும் சிதைவுகளாக மீண்டும் இணைகின்றன. ஹைட்ரஜன் மற்றும் அதன் ஐசோடோப்புகள் தவிர, வேறு எந்த வாயுவும் சவ்வு வழியாக செல்ல முடியாது, எனவே கவச சவ்வு தீவிர உயர் தூய்மை ஹைட்ரஜனைப் பெற பயன்படுத்தப்படலாம். ஹைட்ரஜன் டிரான்ஸ்மேம்பிரேன் வீதம் வெப்பநிலை, பட தடிமன் மற்றும் படத்தின் இருபுறமும் உள்ள ஹைட்ரஜன் பகுதி அழுத்த வேறுபாடு P ஆகியவற்றுடன் தொடர்புடையது. வெப்பநிலையை அதிகரிப்பது, மனித P ஐ அதிகரிப்பது மற்றும் படத்தின் தடிமன் குறைவது ஹைட்ரஜன் ஊடுருவலை அதிகரிக்கும். இருப்பினும், வெப்பநிலை அதிகமாக இருந்தால், அது ஆற்றல் நுகர்வு அதிகரிக்கும் மற்றும் படத்தின் உடல் வலிமையைக் குறைக்கும். எனவே, வெப்பநிலை பொதுவாக 400C இல் கட்டுப்படுத்தப்படுகிறது. சில அசுத்தங்கள் சவ்வு நச்சுக்கு வழிவகுக்கும், சவ்வின் அம்மோனியா ஊடுருவலைக் குறைக்கலாம் மற்றும் சவ்வை அழிக்கலாம். பாதரசம், ஆர்சனைடு, ஹாலைடு, எண்ணெய் நீராவி, சல்பர் மற்றும் அம்மோனியா பொருட்கள் மற்றும் தூசி ஆகியவற்றால் ஈய நச்சு ஏற்படலாம். அலுமினியம் கலவை குழாய்கள் (குழாய்கள்) அல்லது உதரவிதானங்கள் (படங்கள்) செய்யப்படலாம்.